產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
勻膠顯影儀是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
詳情介紹:
勻膠顯影機 型號:SC100-DE
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng),采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序,使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義;同類產(chǎn)品中**的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。
主要性能指標:
主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學(xué)腐蝕易清潔)
旋涂程序:多可存100組程序,每組100步,每個步驟可到0.1秒
轉(zhuǎn)動速度:0-10,000rpm(更高速可選)
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復(fù)性< 1rpm
工藝時間設(shè)定: 0-3,000 sec/step,時間設(shè)置精度:0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)
標準配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水)
產(chǎn)品特性優(yōu)點:
主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果
可實現(xiàn)多**立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干
控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便
顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
高可靠性和重復(fù)性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
可添加去邊膠和背膠清洗功能
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng),采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序,使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義;同類產(chǎn)品中**的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。
主要性能指標:
主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學(xué)腐蝕易清潔)
旋涂程序:多可存100組程序,每組100步,每個步驟可到0.1秒
轉(zhuǎn)動速度:0-10,000rpm(更高速可選)
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復(fù)性< 1rpm
工藝時間設(shè)定: 0-3,000 sec/step,時間設(shè)置精度:0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)
標準配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水)
產(chǎn)品特性優(yōu)點:
主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果
可實現(xiàn)多**立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干
控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便
顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
高可靠性和重復(fù)性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
可添加去邊膠和背膠清洗功能
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聯(lián)系人:王汝玄
聯(lián)系電話:18910554055 18910534055 18611444986
傳真號碼:010-68467699
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